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  化生技 - 3D X-Ray顯微鏡-Xradia 600 Versa/Xradia 500 Versa/Xradia 410 Versa/Xradia Context MicroCT/Xradia 800 Ultra



ZEISS 以超過全世界50個同步加速器室Z煇之績,在X-Ray 3D顯微成粻系◢t列產品被科界及業界廣泛踇受、使用。目前,ZEISS 除在半黯體封U、各式電路板產業(PCB)故坐尷R之成熟R用上,X-Ray 3D顯微成粻系列產品也已成功進入生物醫、生命科、石油和天然氣勘、奈米成粻R用以及先進材料開發峎貾}Z煇。 ZEISS 是唯一提供在微米及奈米巹2D及3D X-Ray成粻決方案之設想供R峞A3D坨影粻分~率亦將引Z您進入一個新的斷層掃描Z煇。
Versa 及 Ultra系列產品,無需對樣品使用傳◥漪V色前處理,對生物材料可快速進行非破壞 性的表面和內齛c分析。從半黯體故坐尷R、藥物開發、分子影粻、幹N胞研究、織器官 分析和先進材料的開發,皆有相烿成熟的R用。
3D X射線顯微鏡 ZEISS Xradia 600 Versa 系列
非破壞性坨析3D X-Ray顯微鏡
特點:
icon 使用琌司Xradia 600 Versa 系列3D X射線顯微鏡(XRM),為琌司Xradia Versa系列中最先進的型號,為您的科發現和工業研究新的多功能性。 ZEISS Xradia 600系列Versa以行業Z先的分~率和對比度為基銦A擴展了非破壞性成粻的範圍,為您的研究提供了最大的靈活性。
A準規範:
icon
R用:
icon 材料研究
生命科
自然資源
電子產品 (半黯體)
規格:
icon 空間分~率: 0.5 µm
可現體素: 40 nm
3D X射線顯微鏡 Xradia 500 Versa 系列
非破壞性坨析3D X-Ray顯微鏡
特點:
icon Xradia Versa決方案可躍助您擴展您的產品研究超出了基於投影的限制具有真空間的微奈米CT系═~率為0.7μm,最小可達到的體素尺寸為70nm。傳Ⅹ_層掃描依賴於洙級放大倍率,Xradia 520 Versa採用基於同步加速器 - 口徑光系◥瑪W特兩段過程。 體靈活的對比度,坨度易用性,以及我們突破性的虐距烯分~率(RaaD),現前所未有的室索適用於各掔R用,樣品類型和尺寸。 X射線視牾使您獲得坨分分~率內鷈_層掃描。 另外 X射線的非破壞性和我們的多長度尺度功能允許您 在很寬的範圍內對相同的樣本進行成粻放大倍。
A準規範:
icon
R用:
icon 材料研究
生命科
自然資源
電子產品 (半黯體)
規格:
icon 空間分~率: 0.7 µm
可現體素: 70 nm
3D X-Ray顯微鏡 ZEISS Xradia 410 Versa 系列
非破壞性坨析3D X-Ray顯微鏡
特點:
icon Xradia 410 Versa彌補了坨性能X射線顯微鏡與功能較弱,成本較低的計算陜斷層掃描(CT)系═孜〞漁t距。 Xradia 410 Versa提供具有行業最佳分~率,對比度和原位功能的非破壞性3D成粻促進最廣泛的樣本規模的開創性研究。 渧器是一掔功能強大,經濟坨效的“主力”決方案,可增強各掔室環鴗云漲具^工作流程。
A準規範:
icon
R用:
icon 材料研究
生命科
自然資源
電子產品 (半黯體)
規格:
icon 空間分~率: 0.9 µm
可現體素: 100 nm
3D X-Ray奈米斷層掃描 Xradia Context microCT
非破壞性坨析3D X-Ray奈米斷層掃描
特點:
icon ZEISS Xradia Context microCT是一掔大視,非破壞性3D X射線微型計算陜斷層掃描系╮C 琌司Xradia Context是您的成粻決方案,可滿足各掔3D表徵和檢測需求,涵蓋大型完整樣品,以及在完整3D環鴗勿膆雂N節,以及小樣本在最大幾何放大率下,可以分~出坨分~率和坨對比度的精N特徵。 Xradia Context基於久經考的ZEISS Xradia平台,為您提供卓越的圖粻質量,箍定性和可用性,以及坨效的工作流環鴝M坨吞吐量掃描。 進入琌司Xradia生態系Ⅵ]強大的X射線系Ⅱ”炳z烿前的需求,並通過將Xradia Context microCT的未來升級或現場魖韸radia Versa X射線顯微鏡,獲得日後的保證。
A準規範:
icon
R用:
icon 材料研究
生命科
自然資源
電子產品 (半黯體)
規格:
icon 空間分~率: 0.95 µm
可現體素: 500 nm
奈米級X-Ray成粻顯微鏡 Xradia 800 Ultra 系列
奈米級X-Ray成粻顯微鏡
特點:
icon Xradia 810 Ultra將奈米級三維X射線成粻的生產率提坨了10倍。這鈚創新的X射線顯微鏡(XRM)工作在5.4 keV,能量更低,可為介質提供更好的對比度和圖粻質量 低Z樣品和整個科和工業中使用的其他材料。 更好的對比度使得更坨質量的斷層攝影能潣獲得快一個量級,同時現低至50納米的分~率。
A準規範:
icon
R用:
icon 材料研究
生命科
自然資源
電子產品 (半黯體)
規格:
icon 空間分~率: 50-150 nm
視:16-65 μm
粻素尺寸:16-64 nm
 
 
 
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